韓國韓一(HANIL)HVC-2050真空鍍膜機的綜合技術(shù)明細(xì)介紹:
一、核心參數(shù)與結(jié)構(gòu) 真空系統(tǒng) 真空室尺寸:Φ2050mm(臥式設(shè)計,高度1800mm),兼容直徑2000mm基板架,支持5片式批量處理。 極限真空度:≤7.0×10?? Pa(機械泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵組合),抽速優(yōu)化至15分鐘內(nèi)從大氣壓降至2.0×10?³ Pa24。 保壓性能:關(guān)閉高閥后1小時內(nèi)真空度≤8×10?² Pa1。 蒸發(fā)源配置 蒸發(fā)源類型:標(biāo)配1臺電子槍(EB)+1臺熱阻蒸裝置,支持金屬/高熔點材料與有機物雙工藝。 坩堝設(shè)計:環(huán)形或多點旋轉(zhuǎn)坩堝(12穴),可鍍制100層以上復(fù)雜膜系。 驅(qū)動與運動系統(tǒng) 工件架類型:鐘罩式或行星式可選,轉(zhuǎn)速10-50rpm可調(diào),適配曲面/異形基材。 基板加熱:最高溫度350℃,提升膜層附著力。
二、鍍膜控制系統(tǒng) 膜厚監(jiān)控 晶振傳感器:6點式晶控(XTC/3+),實時調(diào)控沉積速率46。 光學(xué)監(jiān)控:HOM2-R-VIS350A系統(tǒng),波長范圍350-1100nm(反射/透射式),膜層均勻性誤差≤±1%。 輔助技術(shù) 離子源:配置12寸射頻(RF)離子源或霍爾離子源(韓一GTHC8×2),增強膜層致密性(通過4萬次耐磨驗證)。 自動化:ACS全自動鍍膜系統(tǒng),支持工藝參數(shù)存儲與閉環(huán)控制。
三、性能與工作條件 項目 參數(shù) 加工效率 單次鍍膜周期15-30分鐘,年產(chǎn)能≥10萬片 電源需求 三相380V/50Hz,峰值功耗80-120KVA冷卻水 ≥140升/分鐘(0.3-0.5MPa,18-25℃)壓縮空氣 0.4-0.8MPa 整機尺寸 ≈2300×2800×3300mm(寬×深×高) 設(shè)備重量 約8-9噸
四、典型應(yīng)用領(lǐng)域 消費電子:智能手機蓋板玻璃AR/AF防污膜、觸控屏ITO導(dǎo)電膜鍍制。 光學(xué)器件:車載后視鏡、滑雪鏡片、潛水鏡的增透膜(AR)與七彩裝飾膜。 工業(yè)鍍膜:工具硬質(zhì)涂層(PVD)、水晶飾品表面裝飾鍍層。
五、設(shè)備變體與選配 HVC-2050DA型號:集成霍爾離子源,適配車載鏡片高耐磨需求。 擴(kuò)展性:可選配深冷捕集泵(Polycold)或冷凝泵,提升真空穩(wěn)定性。 注:部分二手設(shè)備含3-6個月保修及工藝培訓(xùn)服務(wù),實際參數(shù)以制造商技術(shù)文檔為準(zhǔn)



