SGC-S1550i/1700Wi系列采用高功率RF離子源(23英寸輻照面積),支持Ф1150mm以上基片均勻鍍膜,可實現100層以上復雜介質膜制備,如DBR膜、AR膜、AF膜等,滿足LED、光學器件及顯示面板的高精度需求。
污染控制技術:通過真空密封與顆粒抑制設計,連續20批次IR截止濾光片鍍膜無需清掃校正,保障工藝穩定性。專為LED多層光學DBR膜設計(詳情楊經理:181-030-45976)
高效率排氣系統
集成機械泵+羅茨泵+擴散泵及POLYCOLD低溫冷凝器,極限真空≤7.0×10??Pa,抽真空至工作狀態僅需15分鐘,顯著提升產能。
精密膜厚控制
采用光纖式光學膜厚儀與80點恒溫監控玻璃,結合XTC/3+6點水晶傳感器,膜厚公差控制達±0.1nm級,確保鍍膜重復性。
設備配置與可靠性
離子源技術:配備美國KRI考夫曼離子源或同等級高性能離子源,離子束聚焦精準,膜層致密性通過4萬次摩擦測試。
操作系統:全自動一鍵操作,每爐參數帶記憶存儲功能,支持復雜鍍膜流程編程。
擴展性:兼容樹脂基片至硬質光學材料,適配半導體、激光保護片等高端應用.