日本昭和真空鍍膜機(23寸射頻源SGC-S1550i型)的核心配置與技術細節綜合說明:
真空系統
真空室:尺寸兼容Φ1550mm規格(不銹鋼材質),工件架輻照面積≥Φ1150mm,極限真空≤7.0×10??Pa,搭配機械泵+羅茨泵+擴散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD),15分鐘內可抽至工作真空(大氣壓→5×10?³Pa)。
污染控制:特殊設計降低微塵污染,支持連續20批次IR截止濾光片鍍膜無需清掃校正。
鍍膜組件
射頻離子源:23寸高功率RF離子源,離子束聚焦精準,增強薄膜致密性與附著力,適用于樹脂基片至多層濾波片的高品質鍍膜。
蒸發源:配置電子槍(PLASMATECH 10KW型號)或熱阻蒸裝置,支持AR/AF/HR膜及100層以上介質膜制備。
監控系統
膜厚控制:光纖式光學膜厚儀+80點恒溫監控玻璃,結合晶控系統(如美國英福康SQM-160),實現納米級精度膜厚重復性。
自動化:全自動一鍵操作,參數記憶存儲功能,降低人工干預15。
穩定性:抗污染技術與真空系統協同,保障批量連續生產(如20批次IR濾光片零維護)。
精度控制:光纖監控儀溫控設計,確保膜層特性高度穩定,均勻性誤差≤±1%。
兼容性:適配玻璃、樹脂、金屬基材,覆蓋AR膜、AF膜、DBR膜(LED專用)等復雜膜系。
光學器件:IR截止濾光片、分色濾光片、高反射膜(HR膜)。
顯示與電子:手機蓋板AF膜、車載鏡頭鍍膜、觸摸屏防污膜(AS膜)。
特殊領域:LED多層光學DBR膜、光纖介質膜。
2015-2017年產在產設備轉讓
服務支持:包安裝調試、工藝培訓(如AF膜量產技術)及3個月保修。
電源需求:三相200V/50-60Hz,功率80-120KVA212。
冷卻系統:水流量≥220L/min,空氣壓力0.5-0.7MPa12。
設備尺寸:整機重約11-12噸,需凈化車間穿墻安裝