一、核心規(guī)格參數(shù) 鍍膜系統(tǒng) 有效鍍膜區(qū)域:Φ1650×H850mm(支持最大2.5m²基板) 腔室結(jié)構(gòu):6個(gè)獨(dú)立工藝腔室(預(yù)清洗/刻蝕/雙DC濺射/成膜/冷卻/裝卸) 真空系統(tǒng): 極限真空度:8.0×10??Pa(成膜室) 抽速能力:3.0×10?³Pa(≤15分鐘) 靶材配置 旋轉(zhuǎn)陰極:6組(直徑Φ200mm,轉(zhuǎn)速0-30rpm可調(diào)) 兼容靶材:Nb、Si、Cr、Al及其合金(靶材利用率≥85%)
二、關(guān)鍵技術(shù)優(yōu)勢(shì) 智能控制系統(tǒng) 全自動(dòng)提拉升降轉(zhuǎn)架(節(jié)拍時(shí)間≤8分鐘) 7寸工業(yè)觸摸屏(支持KT-Z1650PVD同款控制邏輯) 工藝參數(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)(存儲(chǔ)≥100組膜系配方) 工藝創(chuàng)新設(shè)計(jì) 專(zhuān)利離子源(離化率≥60%,基板溫度≤80℃) 動(dòng)態(tài)氣體流量控制(精度±1.5%FS)
三、典型應(yīng)用方案 應(yīng)用領(lǐng)域 膜系示例 膜層特性 車(chē)載光學(xué)鍍膜 SiO?/Nb?O?(5-8層) 可見(jiàn)光透過(guò)率≥92% 3C裝飾鍍膜 TiN/ZrO?漸變膜系 色差ΔE≤1.5(CIELAB) 功能性鍍膜 Si?N?硬質(zhì)膜(厚度2-5μm) 鉛筆硬度≥9H
四、擴(kuò)展配置選項(xiàng) 夾具系統(tǒng) 標(biāo)準(zhǔn)配置:中心旋轉(zhuǎn)公轉(zhuǎn)夾具(承重50kg) 可選配置:掛板式夾具(寬度200-300mm,支持異形件) 維護(hù)設(shè)計(jì) 工藝腔室180°旋轉(zhuǎn)開(kāi)門(mén)(維護(hù)空間≥1.2m) 快拆式靶材支架(更換時(shí)間≤30分鐘)