‌SGC-S1550i/1700Wi系列采用高功率RF離子源（23英寸輻照面積），支持Ф1150mm以上基片均勻鍍膜，可實現(xiàn)100層以上復(fù)雜介質(zhì)膜制備，如DBR膜、AR膜、AF膜等，滿足LED、光學(xué)器件及顯示面板的高精度需求‌。
‌污染控制技術(shù)‌：通過真空密封與顆粒抑制設(shè)計，連續(xù)20批次IR截止濾光片鍍膜無需清掃校正，保障工藝穩(wěn)定性‌。專為LED多層光學(xué)DBR膜設(shè)計‌（詳情楊經(jīng)理：181-030-45976）

‌高效率排氣系統(tǒng)‌
集成機械泵+羅茨泵+擴散泵及POLYCOLD低溫冷凝器，極限真空≤7.0×10??Pa，抽真空至工作狀態(tài)僅需15分鐘，顯著提升產(chǎn)能‌。

‌精密膜厚控制‌
采用光纖式光學(xué)膜厚儀與80點恒溫監(jiān)控玻璃，結(jié)合XTC/3+6點水晶傳感器，膜厚公差控制達±0.1nm級，確保鍍膜重復(fù)性‌。

‌設(shè)備配置與可靠性‌
‌離子源技術(shù)‌：配備美國KRI考夫曼離子源或同等級高性能離子源，離子束聚焦精準，膜層致密性通過4萬次摩擦測試‌。
‌操作系統(tǒng)‌：全自動一鍵操作，每爐參數(shù)帶記憶存儲功能，支持復(fù)雜鍍膜流程編程‌。
‌擴展性‌：兼容樹脂基片至硬質(zhì)光學(xué)材料，適配半導(dǎo)體、激光保護片等高端應(yīng)用‌.